Mécanismes et croissance des couches minces

Code Stage : MS13

Tarifs

1890 € HT

Nombre d'heures

28

[legende-image]1295877051722[/legende-image]Stage de quatre jours.
Organisé par la Société Française du Vide (SFV)


Responsable

Isabelle MABILLE, Maître de Conférences à Chimie Paristech.

Publics et conditions d'accès

Techniciens, ingénieurs ou chercheurs souhaitant approfondir leurs connaissances dans ce domaine.

Objectifs

  • Comprendre les mécanismes de croissance et les phénomènes physiques et chimiques associés à l’élaboration des films minces.

Voir aussi les formations en

Programme

  • Présentation comparative des différentes techniques de croissance sous vide de films minces (pulvérisation, évaporation, CVD).
 
  • Rappel concernant la théorie cinétique des gaz : notion de pression, distribution de type Maxwell-Boltzmann, libre parcours-moyen, flux de particules sur une surface.
 
  • Interaction ions-surface : ralentissement des ions dans un solide, cascade de collisions, collision binaire, notion de taux de pulvérisation, énergie seuil de pulvérisation.
 
  • Notions sur les plasmas de décharge basse pression : définitions, grandeurs, interface plasma-paroi, les différents types de décharge, caractérisation d’un plasma (cours et TP).
 
  • Mécanismes de croissance : description des modes de croissance et exemples de structuration (cours et TP).
 
  • Systèmes de contrôle en temps réel : description des différentes techniques d'analyse du procédé (cours et TP).

Complément lieu

SFV Paris et Orsay

Session(s)

du 30 mai 2017 au 2 juin 2017