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Mécanismes et croissance des couches minces
Organisé par la Société française du vide (SFV)
Objectif
•
Comprendre lesmécanismes de croissance et les phénomènes physiques
et chimiques associés à l’élaboration des films minces.
MS13
Public
Techniciens, ingénieurs ou cher-
cheurs.
Programme
• Présentation comparative des différentes tech-
niques de croissance sous vide de filmsminces
(pulvérisation, évaporation, CVD).
• Rappel concernant la théorie cinétique des
gaz : notion de pression, distribution de type
Maxwell-Boltzmann, libre parcours-moyen,
flux de particules sur une surface.
• Interaction ions-surface : ralentissement des
ions dans un solide, cascade de collisions, col-
lision binaire, notion de taux de pulvérisation,
énergie seuil de pulvérisation.
• Notions sur les plasmas de décharge basse
pression : définitions, grandeurs, interface
plasma-paroi, les différents types de décharge,
caractérisation d’un plasma (cours et TP).
• Mécanismes de croissance : description des
modes de croissance et exemples de structu-
ration (cours et TP).
• Systèmes de contrôle en temps réel : descrip-
tion des différentes techniques d’analyse du
procédé (cours et TP).
28
heures
/4
jours
1, 2, 3, 4 avril 2014
Tarif : 1 810 € HT
SFV Paris
Chimie ParisTech
IUT Orsay
Responsable pédagogique
IsabelleMabille,
maître de conférences,
Chimie ParisTech
MS13
